МОДЕЛИРОВАНИЕ МЕТОДОМ SRIM/TRIM ИОННО-ЛУЧЕВОЙ МОДИФИКАЦИИ КЕРАМИЧЕСКИХ МЕМБРАН НА ОСНОВЕ CEO2 ИОНАМИ AG И AU

Керамические мембраны на основе CeO2 служат основой кислород-проводящих мембран, катализаторов дожигания и фотокаталитических систем. Введение Ag и Au в приповерхностный слой придаёт мембране каталитическую, плазмонную или антибактериальную функциональность, однако пропиточные и золь-гель методы дают слабо контролируемое распределение металла по глубине и блокируют поровое пространство. При ионной имплантации глубина залегания металла задаётся энергией пучка, а доза — флюенсом; ключевая задача — согласовать пробег ионов с толщиной селективного слоя при допустимом радиационном повреждении. Настоящая работа решает эту задачу расчётно.