МОДЕЛИРОВАНИЕ МЕТОДОМ SRIM/TRIM ИОННО-ЛУЧЕВОЙ МОДИФИКАЦИИ КЕРАМИЧЕСКИХ МЕМБРАН НА ОСНОВЕ ZRO2 ИОНАМИ AG И AU

Керамические мембраны на основе ZrO2 служат основой твердооксидных электролитов, нанофильтрационных мембран и термобарьерных покрытий. Введение Ag и Au в приповерхностный слой придаёт мембране каталитическую, плазмонную или антибактериальную функциональность, однако пропиточные и золь-гель методы дают слабо контролируемое распределение металла по глубине и блокируют поровое пространство. При ионной имплантации глубина залегания металла задаётся энергией пучка, а доза — флюенсом; ключевая задача — согласовать пробег ионов с толщиной селективного слоя при допустимом радиационном повреждении. Настоящая работа решает эту задачу расчётно.