Effect of DC Sputtering Power on the Magnetization Dynamics of NiFe Thin Films
본 연구에서는 DC 마그네트론 스퍼터링 파워(DC magnetron sputtering power)가 강자성 NiFe 박막의 자화 동역학 특성에 미치는 영향을 체계적으로 분석하였다. 증착 파워를 18에서 225 W로 변화시키며 NiFe 박막을 제작하였고, 강자성 공명(ferromagnetic resonance, FMR) 측정을 통해 길버트 감쇠 상수(α) 및 유효 자화(4πM<sub>eff</sub>)를 도출하였다. 분석 결과, 스퍼터링 파워가 증가함에 따라 유효 자화 값은 0.3에서 0.68 T로 뚜렷하게 증가한 반면, 길버트 감쇠 상수(α)와 비균질 선폭(∆𝐻₀)은 급격히 감소하는 경향을 보였다. 이러한 결과는 스퍼터링 파워의 정밀한 제어가 자성 박막의 구조적·동역학적 특성 최적화에 결정적인 요소임을 시사한다.
Authors
- Sunjae Chung (ORCID: https://orcid.org/0000-0002-9970-0060)
- Huali Yang (ORCID: https://orcid.org/0000-0002-4889-2410)
- Sanghoon Lee (ORCID: https://orcid.org/0009-0001-2248-5534)
Publication Details
- Journal
- Journal of the Korean Magnetics Society
- Published
- 2026-02-28
- DOI
- https://doi.org/10.4283/jkms.2026.36.1.039
- Primary Topic
- Magnetic properties of thin films
- Type
- article
- Field-Weighted Citation Impact
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