Atomic layer deposition of NiO <sub> <i>x</i> </sub> : harnessing the potential of new precursor combinations for photoelectrochemical water oxidation
This work shows the critical effect of both nickel precursors and oxygen sources on the photoelectrochemical response towards water oxidation of NiO thin films grown by atomic layer deposition.
Authors
- Ludovic Largeau (ORCID: https://orcid.org/0000-0002-8566-9648)
- Bruno Fabre (ORCID: https://orcid.org/0000-0002-0488-7812)
- Simon D. Elliott (ORCID: https://orcid.org/0000-0001-5573-5694)
- Antoine Seyeux (ORCID: https://orcid.org/0000-0002-3062-8961)
- Lionel Santinacci (ORCID: https://orcid.org/0000-0002-7250-0704)
- Vyshnav Kannampalli
- Marcel Schmickler
- A. José
- Anjana Devi (ORCID: https://orcid.org/0000-0003-2142-8105)
Institutions
- Centre National de la Recherche Scientifique (FR)
- Chimie ParisTech - PSL (FR)
- Aix-Marseille Université (FR)
- Université Paris Sciences et Lettres (FR)
- Université Paris-Saclay (FR)
- Leibniz Institute for Solid State and Materials Research (DE)
- Laboratoire de Génie Électrique et Électronique de Paris (FR)
- Sorbonne Université (FR)
- Institut des Sciences Chimiques de Rennes (FR)
- Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies (FR)
- CentraleSupélec (FR)
- Institut de Recherche de Chimie Paris (FR)
- Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille (FR)
- Université de Rennes (FR)
- Technische Universität Dresden (DE)
- Ruhr University Bochum (DE)
Publication Details
- Journal
- Journal of Materials Chemistry A
- Published
- 2025-11-04
- DOI
- https://doi.org/10.1039/d5ta04555j
- Primary Topic
- Advanced Photocatalysis Techniques
- Type
- article
- Field-Weighted Citation Impact
- 0.00
Funders
- Deutsche Forschungsgemeinschaft
- Agence Nationale de la Recherche
- Centre National de la Recherche Scientifique