Analysis of the Impact of Etching Error Rate on the Performance of Diffractive Optical Elements

본 논문에서는 1차, 2차 식각 오차 별 영향치를 각각 중심광과 회절 대칭에 의한 Hot Spot Ghost의 발생 정도로 비교 분석하여 노광 깊이 편차 허용치를 확인하였다. Low Beam(변환빔) Head Lamp ECE-R112 규격의 배광 Pattern을 개발과정 중 Mask 노광 식각 깊이가 허용치보다 116% 이상 식각 되어 중심광이 허용치 이상의 밝기를 나타내었고 이와 같은 부적합 결괏값 발생을 줄이고자 연구를 실시하였다. 1차 노광 깊이 편차 허용치를 원 설계값의 120% 밝기로 설정 시 –0.5%~+4%의 깊이 편차의 발생을 확인하였으며 2차 노광 깊이 편차 허용치를 원 설계값의 120% 밝기로 설정 시 –2%~+10%의 깊이 편차의 발생을 확인하였다. 본 논문에서 확인한 적정 허용치를 통해 배광 Pattern 구현 시 결괏값 오차감소에 기여할 것으로 예상된다.